प्लैटिनम लक्ष्य

उच्च {{0}शुद्धता, सघनता, और समान रूप से फिल्म बनाने वाली {{1}अर्धचालक और चिकित्सा उपकरणों के लिए अत्यधिक स्थिर और उच्च {{2}तापमान {{3}प्रतिरोधी पतली फिल्म जमाव समाधान प्रदान करती है।

प्लैटिनम स्पटरिंग लक्ष्य एक बहुमूल्य धातु स्पटरिंग लक्ष्य है जो वैक्यूम पिघलने, गर्म आइसोस्टैटिक दबाव (एचआईपी), सटीक फोर्जिंग और यांत्रिक प्रसंस्करण के माध्यम से उच्च शुद्धता वाले प्लैटिनम से निर्मित होता है। इसका उपयोग मुख्य रूप से भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) मैग्नेट्रोन स्पटरिंग प्रक्रियाओं में किया जाता है। इस उत्पाद में उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व, समान सूक्ष्म संरचना और उत्कृष्ट आयामी सटीकता है, जो संक्षारण प्रतिरोधी, उच्च {{4} तापमान प्रतिरोधी, और अत्यधिक स्थिर प्लैटिनम फिल्मों के निर्माण को सक्षम बनाता है। इसका अर्धचालक, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स, नई ऊर्जा प्रौद्योगिकियों, सेंसर और चिकित्सा उपकरणों में व्यापक अनुप्रयोग पाया जाता है।